2025年12月08日 星期一
這套系統(tǒng)，在計算機的控制下可直接在光或熱阻薄膜材料上形成數(shù)十納米級任意形狀的納米構(gòu)造，可獲得導(dǎo)體，半導(dǎo)體和絕緣體的相應(yīng)構(gòu)造，可在制造納米電極和納米電路、生物醫(yī)療納米器件、超大規(guī)模電路的納米特征尺度掩膜等領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。納米無掩模光刻技術(shù)迎合了微納器件制造的發(fā)展趨勢，能克服目前的光刻技術(shù)由于掩模成本不斷增加所帶來的困難。
