技術特點(包含主要技術指標）：
本技術主要利用微波化學氣相沉積法在不同的襯底上生長各種不同類型的金剛石薄膜，可應用于金剛石高頻高能微電子機械系統(tǒng)、功能防護涂層和透明電極、金剛石基生物傳感器，IR、紫外以及X光的窗口，場發(fā)射器件，遠紫外激光器的制備等等。在硬質(zhì)合金上生長的金剛石膜與基體之間有良好的結合力，可應用于輕金屬和碳材料的機械加工。此外，本技術工藝簡單，成本低廉，適合于工業(yè)推廣和應用。技術指標包括：生長面積：≤3英寸；沉積速率：<10mm/h；厚度：3～50微米； 硬度：50-100GPa。
